AXT Inc【AXTI】 業績・財務データ NASDAQ

AXT株式会社(AXT)も、ウェーハとして知られている化合物と単一元素半導体基板、の開発者とプロデューサーです。半導体チップ等の電子回路を製造する際に使用される支配的な基板はシリコンから作られます。当社は、化合物半導体基板や材料の販売、設計、開発、製造、流通に従事しています。当社は、化合物および単一素子基板などの基板またはウェハの形で代替または特殊材料を提供します。その化合物の基板は、ヒ素(GaAsの)とリン(InPの)またはガリウムをインジウム組み合わせます。その単一の素子基板は、ゲルマニウム(Ge)から作られます。当社は、単結晶インジウムリン(InP)、ガリウム砒素(GaAs)や多様な電子および光電子デバイスと回路アプリケーションのためのウェーハを製造するために使用されるゲルマニウム(Ge)インゴットを成長させるための垂直温度勾配凝固(VGF)技術を使用しています。

AXT Inc【AXTI】 業績・財務データ NASDAQ

AXT株式会社(AXT)も、ウェーハとして知られている化合物と単一元素半導体基板、の開発者とプロデューサーです。半導体チップ等の電子回路を製造する際に使用される支配的な基板はシリコンから作られます。当社は、化合物半導体基板や材料の販売、設計、開発、製造、流通に従事しています。当社は、化合物および単一素子基板などの基板またはウェハの形で代替または特殊材料を提供します。その化合物の基板は、ヒ素(GaAsの)とリン(InPの)またはガリウムをインジウム組み合わせます。その単一の素子基板は、ゲルマニウム(Ge)から作られます。当社は、単結晶インジウムリン(InP)、ガリウム砒素(GaAs)や多様な電子および光電子デバイスと回路アプリケーションのためのウェーハを製造するために使用されるゲルマニウム(Ge)インゴットを成長させるための垂直温度勾配凝固(VGF)技術を使用しています。

AXT Incの株主資本推移

(単位:百万円) 株主資本 前年比
2022年12月 244 +6.55%
2021年12月 229 +10.52%
2020年12月 207 +7.89%
2019年12月 192 -0.91%
2018年12月 194 +3.3%
2017年12月 188 +34.23%
2016年12月 140 +1.98%
2015年12月 137 -4.93%
2014年12月 144 -0.59%
2013年12月 145 -3.56%
2012年12月 150 +2.63%
2011年12月 147
Finboard(姉妹サイト)では、さらに柔軟に財務データを閲覧できます。
Finboardに移動