Cabot Microelectronics Corporation【CCMP】 業績・財務データ NASDAQ

キャボット・マイクロエレクトロニクス社は、化学機械平坦化(CMP)と呼ばれるプロセスにおいて、半導体産業における集積回路(IC)の製造に使用されるスラリーおよび研磨パッドデバイスに供給する。当社は、CMP消耗品の開発、製造、販売に従事しています。当社は、導電性を研磨し、ICデバイスに使用される材料を絶縁するため、また、ハードディスクドライブに使用されるディスク基板および磁気ヘッドを研磨するためのCMPスラリーを、開発、製造および販売を行っております。また、開発、製造およびCMP工程でスラリーと併せて使用されるCMP研磨パッドを販売しています。また、当社は設計された表面仕上げ(ESF)事業を通じて他の表面改質用途を追求しています。当社は、アプリケーションおよび技術ノードの範囲のために、エピックとNexPlanarのブランド名で、CMP研磨パッドを提供しています。

Cabot Microelectronics Corporation【CCMP】 業績・財務データ NASDAQ

キャボット・マイクロエレクトロニクス社は、化学機械平坦化(CMP)と呼ばれるプロセスにおいて、半導体産業における集積回路(IC)の製造に使用されるスラリーおよび研磨パッドデバイスに供給する。当社は、CMP消耗品の開発、製造、販売に従事しています。当社は、導電性を研磨し、ICデバイスに使用される材料を絶縁するため、また、ハードディスクドライブに使用されるディスク基板および磁気ヘッドを研磨するためのCMPスラリーを、開発、製造および販売を行っております。また、開発、製造およびCMP工程でスラリーと併せて使用されるCMP研磨パッドを販売しています。また、当社は設計された表面仕上げ(ESF)事業を通じて他の表面改質用途を追求しています。当社は、アプリケーションおよび技術ノードの範囲のために、エピックとNexPlanarのブランド名で、CMP研磨パッドを提供しています。

Cabot Microelectronics Corporationの業績推移

(単位:百万ドル) 売上高 営業利益 経常利益 純利益 売上原価 売上総利益 株主資本 総負債 総資産 現金及び現金同等物 流動市場性有価証券 流動資産 流動負債 利益剰余金 営業利益率 経常利益率 当期利益率 自己資本比率 営業キャッシュフロー 投資キャッシュフロー 財務キャッシュフロー 営業キャッシュフローマージン フリーキャッシュフロー ROE ROA 一株あたり利益 希薄化後一株あたり利益 従業員数
2016年9月 430 74 59 497 229 727 17.31% 0.0% 13.9% 68.43% 95 -145 -25 22.12% -50 12.92% 8.63%
2015年9月 414 75 56 428 231 660 18.12% 0.0% 13.56% 64.95% 98 -14 -10 23.71% 84 14.02% 8.9%
2014年9月 424 71 50 372 229 601 16.91% 0.0% 11.95% 61.88% 67 -9 1 15.89% 58 14.6% 8.8%
2013年9月 433 76 52 323 228 551 17.66% 0.0% 12.14% 58.64% 85 -15 -21 19.74% 70
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