Ichor Holdings【ICHR】 業績・財務データ NASDAQ

膿漿ホールディングス株式会社は、半導体資本設備のための流体送達サブシステムの設計、エンジニアリング、製造に従事しています。当社の主要な製品はまとめて、流体送達サブシステムとして知られているガスと化学配信サブシステムを、含まれています。その気体供給システムは、それぞれマスフローコントローラ、調整器、圧力変換器およびバルブのシリーズ、及び集積電子制御システムによって制御される、ガスラインから成ります。そのガス供給サブシステムは、例えば、エッチング、物理蒸着、エピタキシ、およびストリップなどの乾式製造プロセスのための装置に使用されています。その化学供給サブシステムは、正確にこのような湿式洗浄、電気化学堆積(ECD)及び化学機械研磨(CMP)のような特定のウェットフロントエンドプロセスに重要な反応性化学およびコロイドスラリーを、ブレンドおよび分配するために使用されます。これは、流体送達システム内部で使用するとその顧客への直接販売のためのさまざまなコンポーネントを製造しています。

Ichor Holdings【ICHR】 業績・財務データ NASDAQ

膿漿ホールディングス株式会社は、半導体資本設備のための流体送達サブシステムの設計、エンジニアリング、製造に従事しています。当社の主要な製品はまとめて、流体送達サブシステムとして知られているガスと化学配信サブシステムを、含まれています。その気体供給システムは、それぞれマスフローコントローラ、調整器、圧力変換器およびバルブのシリーズ、及び集積電子制御システムによって制御される、ガスラインから成ります。そのガス供給サブシステムは、例えば、エッチング、物理蒸着、エピタキシ、およびストリップなどの乾式製造プロセスのための装置に使用されています。その化学供給サブシステムは、正確にこのような湿式洗浄、電気化学堆積(ECD)及び化学機械研磨(CMP)のような特定のウェットフロントエンドプロセスに重要な反応性化学およびコロイドスラリーを、ブレンドおよび分配するために使用されます。これは、流体送達システム内部で使用するとその顧客への直接販売のためのさまざまなコンポーネントを製造しています。

Ichor Holdingsの自己資本比率推移

(単位:百万ドル) 自己資本比率 前年比
2023年12月 60.17% +10.99%
2022年12月 54.21% +10.52%
2021年12月 49.05% -7.77%
2020年12月 53.18% +36.08%
2019年12月 39.08% -4.33%
2018年12月 40.85% +5.09%
2017年12月 38.87% -22.49%
2016年12月 50.15% +32.99%
2015年12月 37.71% -9.74%
2014年12月 41.78%
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