Veeco Instruments Inc.【VECO】 業績・財務データ NASDAQ

Veeco社インスツルメンツ株式会社は、設計、製造、市場や薄膜の機器をサポートしています。当社の装置は、発光ダイオード(LED)、微小電気機械システム(MEMS)、無線デバイス、パワーエレクトロニクス、ハードディスクドライブ(HDD)や半導体などの電子デバイスを製造するために使用されます。当社は、4地域で動作:米国;中国;ヨーロッパ、中東、アフリカ、およびその他の地域。当社は、有機金属化学気相成長(MOCVD)システムのサプライヤーです。当社の精密表面加工のプラットフォームはWaferEtchとWaferStormが含まれます。当社のNEXUSイオンビーム蒸着(IBD)のシステムは、薄膜の正確な層を堆積させるために、イオンビーム技術を活用しています。当社は、物理蒸着、ダイヤモンドライクカーボンの堆積及び化学気相堆積システムを含む堆積システムの配列を作ります。

Veeco Instruments Inc.【VECO】 業績・財務データ NASDAQ

Veeco社インスツルメンツ株式会社は、設計、製造、市場や薄膜の機器をサポートしています。当社の装置は、発光ダイオード(LED)、微小電気機械システム(MEMS)、無線デバイス、パワーエレクトロニクス、ハードディスクドライブ(HDD)や半導体などの電子デバイスを製造するために使用されます。当社は、4地域で動作:米国;中国;ヨーロッパ、中東、アフリカ、およびその他の地域。当社は、有機金属化学気相成長(MOCVD)システムのサプライヤーです。当社の精密表面加工のプラットフォームはWaferEtchとWaferStormが含まれます。当社のNEXUSイオンビーム蒸着(IBD)のシステムは、薄膜の正確な層を堆積させるために、イオンビーム技術を活用しています。当社は、物理蒸着、ダイヤモンドライクカーボンの堆積及び化学気相堆積システムを含む堆積システムの配列を作ります。

Veeco Instruments Inc.の流動資産推移

(単位:百万円) 流動資産 前年比
2023年12月 706 +5.59%
2022年12月 668 +21.75%
2021年12月 549 -6.4%
2020年12月 586 +23.34%
2019年12月 475 -8.5%
2018年12月 520 -12.88%
2017年12月 596 +19.04%
2016年12月 501 -7.49%
2015年12月 542 -2.43%
2014年12月 555 -9.45%
2013年12月 613 -17.57%
2012年12月 744 -1.33%
2011年12月 754
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