Veeco社インスツルメンツ株式会社は、設計、製造、市場や薄膜の機器をサポートしています。当社の装置は、発光ダイオード（LED）、微小電気機械システム（MEMS）、無線デバイス、パワーエレクトロニクス、ハードディスクドライブ（HDD）や半導体などの電子デバイスを製造するために使用されます。当社は、4地域で動作：米国;中国;ヨーロッパ、中東、アフリカ、およびその他の地域。当社は、有機金属化学気相成長（MOCVD）システムのサプライヤーです。当社の精密表面加工のプラットフォームはWaferEtchとWaferStormが含まれます。当社のNEXUSイオンビーム蒸着（IBD）のシステムは、薄膜の正確な層を堆積させるために、イオンビーム技術を活用しています。当社は、物理蒸着、ダイヤモンドライクカーボンの堆積及び化学気相堆積システムを含む堆積システムの配列を作ります。
Veeco社インスツルメンツ株式会社は、設計、製造、市場や薄膜の機器をサポートしています。当社の装置は、発光ダイオード（LED）、微小電気機械システム（MEMS）、無線デバイス、パワーエレクトロニクス、ハードディスクドライブ（HDD）や半導体などの電子デバイスを製造するために使用されます。当社は、4地域で動作：米国;中国;ヨーロッパ、中東、アフリカ、およびその他の地域。当社は、有機金属化学気相成長（MOCVD）システムのサプライヤーです。当社の精密表面加工のプラットフォームはWaferEtchとWaferStormが含まれます。当社のNEXUSイオンビーム蒸着（IBD）のシステムは、薄膜の正確な層を堆積させるために、イオンビーム技術を活用しています。当社は、物理蒸着、ダイヤモンドライクカーボンの堆積及び化学気相堆積システムを含む堆積システムの配列を作ります。
| （単位：百万円） | 自己資本比率 | 前年比 |
|---|---|---|
| 2023年12月 | 54.71％ | +6.81% |
| 2022年12月 | 51.22％ | +5.22% |
| 2021年12月 | 48.68％ | +7.06% |
| 2020年12月 | 45.47％ | -0.68% |
| 2019年12月 | 45.78％ | -5.8% |
| 2018年12月 | 48.6％ | -19.8% |
| 2017年12月 | 60.6％ | -22.69% |
| 2016年12月 | 78.39％ | -2.28% |
| 2015年12月 | 80.22％ | +0.91% |
| 2014年12月 | 79.5％ | -3.41% |
| 2013年12月 | 82.31％ | -4.9% |
| 2012年12月 | 86.55％ | +6.52% |
| 2011年12月 | 81.25％ |
