Veeco Instruments Inc.【VECO】 業績・財務データ NASDAQ

Veeco社インスツルメンツ株式会社は、設計、製造、市場や薄膜の機器をサポートしています。当社の装置は、発光ダイオード(LED)、微小電気機械システム(MEMS)、無線デバイス、パワーエレクトロニクス、ハードディスクドライブ(HDD)や半導体などの電子デバイスを製造するために使用されます。当社は、4地域で動作:米国;中国;ヨーロッパ、中東、アフリカ、およびその他の地域。当社は、有機金属化学気相成長(MOCVD)システムのサプライヤーです。当社の精密表面加工のプラットフォームはWaferEtchとWaferStormが含まれます。当社のNEXUSイオンビーム蒸着(IBD)のシステムは、薄膜の正確な層を堆積させるために、イオンビーム技術を活用しています。当社は、物理蒸着、ダイヤモンドライクカーボンの堆積及び化学気相堆積システムを含む堆積システムの配列を作ります。

Veeco Instruments Inc.【VECO】 業績・財務データ NASDAQ

Veeco社インスツルメンツ株式会社は、設計、製造、市場や薄膜の機器をサポートしています。当社の装置は、発光ダイオード(LED)、微小電気機械システム(MEMS)、無線デバイス、パワーエレクトロニクス、ハードディスクドライブ(HDD)や半導体などの電子デバイスを製造するために使用されます。当社は、4地域で動作:米国;中国;ヨーロッパ、中東、アフリカ、およびその他の地域。当社は、有機金属化学気相成長(MOCVD)システムのサプライヤーです。当社の精密表面加工のプラットフォームはWaferEtchとWaferStormが含まれます。当社のNEXUSイオンビーム蒸着(IBD)のシステムは、薄膜の正確な層を堆積させるために、イオンビーム技術を活用しています。当社は、物理蒸着、ダイヤモンドライクカーボンの堆積及び化学気相堆積システムを含む堆積システムの配列を作ります。

Veeco Instruments Inc.の流動負債推移

(単位:百万円) 流動負債 前年比
2023年12月 218 -15.46%
2022年12月 257 +36.31%
2021年12月 189 +28.99%
2020年12月 146 +24.07%
2019年12月 118 -26.13%
2018年12月 160 -28.37%
2017年12月 223 +55.71%
2016年12月 143 -11.54%
2015年12月 162 -3.67%
2014年12月 168 +31.37%
2013年12月 128 +14.16%
2012年12月 112 -32.95%
2011年12月 167
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